上获取国家的大力支持。”
胡杨和张潇最后走出会议室，他想了想，还是提了一下那天和陆一鸣商量过的事情。
“胡总，咱俩可是想到一块去了。我合计，高端光刻机项目一定要申请纳入到国家的中长期发展计划当中去，比如像星火计划等。没有国家的支持，这个项目很难往下推进，仅仅是光源都搞不定。”
目前光刻机的光源还是普遍采用深紫光的光源，波长在193nm，这种机型也就是大家常说的ArF光源光刻机。
这种光刻机细分还可以分为，步浸投影式和浸没步进式两种。从理论上来说，步浸投影式光刻机的制程极限可以达到65（nm），浸没步进式的制程极限可以达到22（nm）。
更先进的（EUV）光源光刻机，光源采用波长为13.5nm的极紫光，目前ASML还在积极研发当中。
光源，对于一台光刻机至关重要，国内在一方面的研究目前还很落后。
“张董，你说的对。一台光刻机牵扯到光学、化学等很多学科，真不是一家企业就能搞定的。你请留步，有什么事电话联络。”
胡杨在电梯间和张潇分手，然后乘车回到了家里。
“阿杨，我