础上，就有非常详细完整的合成路线，并且这种路线完全正确，老师还会给学生发布任务，让大家联合动手。
可完整归完整，大家都能按照步骤一点点的合成，想要登上舞台，让半导体巨头使用你的光刻胶这是不可能的。
电子化学最高壁垒不是一句空话。
随着光刻工艺的升级，对光刻胶的要求也越来越高。
为了避免光刻胶线条倒塌，线宽越小的光刻工艺，如目前的32nm，28nm、22nm光刻，对光刻胶的要求高的离谱，所需厚度越来越薄。
22nm的光刻技术制程，光刻胶的厚度要求达到了是100nm左右。
太厚曝光不足，太薄又无法有效的形成光阻，不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀，非常的麻烦，必须要严格按照标准来镀膜。
钟子星与江浩然两人都穿着白大衣，带着护目镜和口罩，身边还跟着几位助手，独占一间实验室。
“第20次实验，厚度依然无法达标……”
江浩然操作着一台电子显示器，屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现，均匀分布，但是远远无法达到顶尖的水准。
稍微低端的刻蚀足够，但绝对无缘顶级市场。