带来无法意料的后果，而且水中的气泡会严重影响晶圆芯片成品率。
加上这段时间，国际上对光源的发展突飞猛进，光线的波长很快发展到192纳米，已经可以满足缩影的需要，此刻，对浸润式缩影技术没有这么大的迫切需求。。
所以这项技术的研究，一直被停滞，知道2000年之后，才被拾起来。
这段时间已经够漫长。
华芯科技想要弯道超车，不耍点手段可不行。
浸润式缩影技术是未来的发展方向，相比于光刻机，难度无疑小了很多。
王岸然在第一批和清大的合作中，就批出巨额的资金，用于研究水以及其他液体，在各种波长下光线的折射现象，测量数据的精度要求在小数点第六位。
同时在水膜形成以及消除气泡上，进行深入研究。
当然，王岸然也时不时的“指导”一下工作。
前世王岸然非常关注在芯片制造行业方面知识。
这个要感谢国家，在9102年，我国已经掌握了浸润式缩影技术，美国再进行封锁已经变得毫无意义。
所以在世面上，可以很轻松的找到浸润缩影相关的技术书籍，有所不同的是光波的波长不一