看，这就是我们尼康研发完成的0.25微米光刻机。”鹤田骄傲的站在玻璃幕墙的一侧，指着里面一台和原来的0.35微米光刻机相差无几的设备，侃侃而谈道：“我们尼康使用了一种全新的技术，可以在现有的0.35微米光刻机生产线上，通过相当的改造升级成0.25微米工艺。”
“主要是更换了光源系统、对准系统，以及加装了一套沉浸式光刻镜头……”
鹤田这话一说出来，人群里顿时就是一片窃窃私语。沉浸式光刻并非是什么新鲜的东西，八十年代的时候就有人提出了类似的设想。
但和改进镜头的加工精度相比，这种方法应该暂时还没有什么成本上的优势啊！
就像鹤田说的，沉浸式光刻可不光是改造一下镜头就可以了。首先需要更换光源，把弧光灯的滤光系统提高到i线的波长来。然后还要更换光刻胶配方……
这样一个系列的研发要求，可是比单纯增加加工精度，在九十年代来说要难多了。
这也是为何沉浸式光刻原本历史上，需要等到二十一世纪才时机成熟——这时候增加加工精度的成本，已经高到无法承受了。反而沉浸式光刻的研发成本，却不那么显眼起来。
但不管美国人再怎么不可置信，