进行实物雕刻的机器；刻蚀机，就是刻蚀掉对产品本身设计不想保留那部分的机器。
这些机器的加工对象，就是晶圆。
顾名思 义，在晶圆上雕刻出的线路越细小，晶体管栅极越短，单位面积所刻制晶体就越多，芯片上可以容存的晶体管就越多，计算效率就越高。
这个时候，奔腾刚开始研制双核cpu，其雕刻工艺的刻道宽度刚刚达到90纳米。而国内这个技术才刚刚起步，恐怕连微米级都达不到。
所以，国内那时候好多以集成元件为基础的零件，比如晶体接近开关，是根本不能用世界先进技术制作的。不是用第二代硅锗晶体管技术制作，弄出来体积庞大，就是要购买国外的微型芯片。但那时候我们是得不到好的芯片的，人家不给你，只能购买人家使用后的晶圆上淘汰的不合格品，用这些东西封装出来的元件，质量也就可以预料了。
要想有微米或者纳米级的工艺，就得用到光刻机，普通光刻机的切割光源波长太大，是无法满足芯片微雕制造要求的，且存在太强的衍射，这是我们始终无法解决的问题。
再说芯片制造。
简单的说，芯片制造就是转录刻模，类似照相原理。
把设计好