前以0.8微米制程工艺生产我们重光的cmp1j1芯片，良品率已经超过了70%，并且还把一微米制程的游影霸王芯片成功移植到了0.8微米制程上，达到了60%以上的良品率。
所以乐观地说，我国目前基本上是已经掌握了了0.8微米制程工艺和设备制造的自主技术，唯独欠缺的是0.8微米制程下的ic设计能力，这方面国内也只有我们重光一家有着深厚的功底和成功经验，毕竟目前可供使用的试验线实在太少了，屈指可数的那几家ic设计单位，也都没有很强的工艺储备，研发经验比起国外公司差的太多。
我们重光要保持领先优势，就必须继续在新工艺上持续研发，不能满足于0.8微米制程的设计，还要为将来的0.35微米制程工艺储备技术和试验参数。
所以胡总和我商量之后，决定把你们214所这条线进行技术改进，打算向中科院光电技术研究所也就是成都光机所下订单，与北都微电子中心同步安装他们的0.8-1微米分步重复投影光刻机。”
顾所长闻言赞道：“我知道你们重光公司是国内唯一一家有0.8微米集成电路设计技术的企业，你们能把所里的这个晶圆厂提升到什么程度，我们也很好奇啊，你们打算怎么搞