我们要关心的问题。
为了彻底脱胶，我的思 路是上双层胶，降低胶膜对光源的反射，也就是目前国际上刚提出来的用抗反射剂来解决胶体残留影响曝光的思 路，其中一层胶体在曝光下分解酸性气体，可以彻底清除残胶，解决残胶影响曝光的问题，从而解决显影缺陷。
好吧，我就说这么多看，至于具体的双胶工艺如何做，那都是技术机密，我不能说。
总之突破这两个工艺之后，制程技术直上50纳米不成问题！今后我们重光的制程技术攻关就在这两点上！！！”
要知道，胡一亭在跳槽华创担纲天思 930芯片研发总设计师之前，他在浦海微电子装备集团就是专门负责集成电路生产设备的制造与生产工艺流程结合，负责为光刻机等先进制程设备与具体ic生产工艺融合而设计最佳方案的！若论对于晶圆厂制程工艺的了解，他算是1996年地球上排名第一的学术权威。
他刚才这番话完全是按照世界制程工艺未来的技术路线在阐述，可谓是高屋建瓴般的技术见解，好比天水顺着屋脊瓦当流下来那么势不可挡！
这年头国内的制程工艺比起西方来还差得远，西方对华的技术封锁造成了国内在这方面有大量技术空白。