王选玉工程师有些激动地道：“胡总，你有没有这方面的论文？如果有的话为什么不发表啊？把你的思 路详细说一说不可以吗？”
胡一亭道：“这些都是国际上最领先的工艺，哪可能写论文给大家白看白学啊!
而且从根子上来说，没有更好的光刻机支持，制程工艺的改进不过是一种强行提高制程的手段罢了，为的是最大限度的提高实验室制程下的良品率。”
顾峡生所长激动道：“可要是能把0.8微米光刻机下的实验线强行提升到0.35微米制程，并且提升流片良品率，这意义还了得啊！
这等于是帮助我们国家提前研发新一代制程下的ic设计工艺啊！这在以往可是只有西方少数巨型集成电路公司才会的技术。”
奚龙山也道：“是啊！哪怕是强行提升试验线路的制程和流片良品率，那也是了不起的技术突破！意义重大！
我听说在英特尔和德州仪器的实验室里，能用平级甚至低级制程设备做出领先世界最先进晶圆厂制程的下一代线宽，来作为ic设计实验线路使用，要是咱们国家也能做到这一点就好了，那样一来，也就不存在晶圆厂等ic设计的尴尬了！”
胡一亭笑道：“对，
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