当然更不得了。
这反映出的，是z国在光学镜头领域的进步。
光刻机镜头自然也难不倒z国的科研人员。
所以光源、双工件台、光刻机镜头这三大用于制造光刻机的核心设备，z国全部掌握。
这也正是asml公司对z国放开光刻机销售的原因……严厉的封锁，光刻机领域，只会导致z国以更快的速度取得突破。
兔子被逼急了，会要你的命。
而z国的光刻机至今没有赶上国外最先进水平，一方面是市场份额被人牢牢把控；其次走相同的技术路线，会不可避免地会侵犯到asml的知识产权，引发专利官司。
再加上一些关键设备的禁售。
国产的光刻机发展始终不温不火。
即便如此，为了绕开国外的专利壁垒，z科院光电所另辟蹊径，研制了一款全新的光刻机——
超分辨纳米光刻机。
这种光刻机采用了与传统光刻设备完全不同的技术路线，用365纳米近紫外光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10~9纳米级别的芯片。
而这款光刻设备，使用的是波长更长、更普